全程見證了該公司逐漸開展成為一家以自研設(shè)備和工藝完結(jié)中試線建造及運(yùn)營，全力助推其躍升為行業(yè)龍頭。國產(chǎn)化率估計(jì)缺乏1% ，直接影響光刻精度及產(chǎn)品良率 。我國需求折算約為100億元人民幣 。資金將用于半導(dǎo)體光刻用石英掩模基板的工藝研發(fā) 、但在100nm以內(nèi)更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)仍需進(jìn)一步打破。是芯與屏用光刻機(jī)的中心資料，掩模版作為要害資料仍有約10年的不行代替周期”。一向參加輔導(dǎo)掩模版基板缺點(diǎn)檢測與質(zhì)量操控