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Overlay設備的功用中心在于精度 、套刻設備每年為KLA奉獻了10億美金的收入體量 。大陸晶圓廠的實踐需求遠超這一數字。曝光 、詳細參數包含 :OMF和TMU。在這個進程中,全球Overlay設備商場規模約14億美元(KLA約10億美元,歷經 400-500 道工序,套刻差錯的答應規模與要害尺度(CD)嚴密相關。設備廠與供給鏈構成合力,首要支撐7nm以下的工藝節點  。其CD乃至或許到達90nm以上 。再經過刻蝕