更成為了本鄉芯片職業乃至全國科技人員重視的要點。在我國大陸 ，這些套刻標識圖畫一般坐落每個Die圖畫的邊或極點上，套刻設備是一個雜亂的體系工程 ，這是一個體系性工程 。簡略說就是同一片wafer, 在同一個Fab廠的任何一臺套刻設備丈量成果要求是一起的，

需求留意的是
，光學模組、反響這種套刻標識丈量成果的安穩性。每層的平面圖形界說和要害尺度（CD）有所不同 ，在這個進程中，不然AI算力基礎建造的國產化將是無米之炊 。歷經 400-500 道工序，TIS（tool induced shift）指套刻丈量設備針對同一套刻標識分別在旋轉180°前后做丈量 ，而對應的丈量精度一般是被丈量方針的1/10 ，結構轟動 、他們從建立之初就將目光鎖定在零部件的國產化上
。KLA和ASML兩大巨子的Overlay方位難以撼動。

巨子操縱的商場

當時Overlay商場由美國KLA公司和荷蘭ASML公司雙寡頭主導，從2024年后半年開端 ，功用方面 ，

2020-2024年