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直接影響光刻精度及產(chǎn)品良率。資金將用于半導(dǎo)體光刻用石英掩模基板的工藝研發(fā) 、一向參加輔導(dǎo)掩模版基板缺點(diǎn)檢測(cè)與質(zhì)量操控