這種需求增加直接體現(xiàn)在設(shè)備的裝備上 ：28nm邏輯產(chǎn)線每萬片產(chǎn)能一般裝備約3臺Overlay設(shè)備；14nm等先進制程則一般需求3-4臺；更先進的工藝對Overlay設(shè)備的需求密度繼續(xù)攀升
。更為我國半導(dǎo)體工業(yè)鏈的長時刻開展鋪平了路途。（2）套疊的線條標識Bar-in-Bar mark，就需求相應(yīng)的丈量設(shè)備 。超越80%的Overlay設(shè)備需求都來自先進制程工藝